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EUV POD

EUV POD

以子母盒雙層設計,提供6EUV光罩在製程站間傳送與儲存的高效能防護,內層EIP可於真空環境下操作。支援充氣功能可對光罩傳送盒內部做微環境的溫溼度控制。

§  光罩尺寸:6 x  6 x 0.25 ()

§  材質:PEEK(ESD)、金屬

§  適用於EUV製程(通過ASML認證)

§  支援充氣功能

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分機1608、1609、3015

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